売上高

利益

資産

キャッシュフロー

セグメント別売上

セグメント別利益

配当

ROE 自己資本利益率

EPS BPS

バランスシート

損益計算書

労働生産性

ROA 総資産利益率

総資本回転率

棚卸資産回転率


最終更新:

E31042 Japan GAAP

売上高

518.9億 円

前期

498.6億 円

前期比

104.1%

時価総額

794.8億 円

株価

3,015 (03/28)

発行済株式数

26,360,206

EPS(実績)

292.23 円

PER(実績)

10.32 倍

平均給与

601.0万 円

前期

597.0万 円

前期比

100.7%

平均年齢(勤続年数)

39.8歳(7.5年)

従業員数

287人(連結:1,534人)

株価

by 株価チャート「ストチャ」

 

3 【事業の内容】

当社グループは、当社、連結子会社(株式会社ユニオンエレクトロニクスソリューション、株式会社DG Technologies、台湾の艾爾斯半導體股份有限公司、中国の北京有研RS半導体科技有限公司、有研半導体硅材料股份公司、山東有研半導体材料有限公司、他4社)、持分法適用関連会社(山東有研RS半導体材料有限公司)(※1)、非連結子会社(福建倉元投資有限公司)と合わせて13社により構成されております。

当社グループは「地球環境を大切にし、世界の人々に信頼され、常に創造し挑戦する。」という経営理念に基づき事業活動を展開しております。

当社グループの主要な事業であるシリコンウェーハ再生事業は、ラサ工業株式会社が25年間世界の半導体製造会社にサービスを提供してきた事業を引き継いだものであり、半導体製造過程で発生するモニタウェーハ(※2)の再生を行う事業であります。シリコンウェーハの再生は、半導体製造工程の特徴及び製造コストの面から需要が発生するものであり、新興国の経済発展及び先進国の更なるデバイス用途(車・医療・環境・家・町・データセンター・M2M(※3)・IoT)の広がり等を背景とした半導体需要の増加とともに需要が拡大しております。当社グループは、国内外の半導体製造会社を取引先とし、大手ファウンドリ(※4)を含めグローバルに販売活動を実施しており、当社、艾爾斯半導體股份有限公司(連結子会社)と山東有研RS半導体材料有限公司(持分法適用関連会社)の3社、3拠点(日本、台湾、中国)で行っております。また、シリコンウェーハ再生事業の他、主要な事業では2018年1月に設立した合弁会社の北京有研RS半導体科技有限公司を通じて、有研半導体材料有限公司(現:有研半導体硅材料股份公司)を連結化したことにより、新たにプライムシリコンウェーハ(※5)製造販売事業に参入しております。

ウェーハ事業のその他として、シリコンウェーハ販売事業、酸化膜成膜加工サービス事業を行っております。また、半導体関連装置・部材等の販売事業、その他の事業として太陽光発電事業等を実施しております。

2023年度10月に株式会社LEシステムを設立し、再生可能エネルギー事業に新規参入致しました。

 

※1 当社は、2019年12月18日開催の取締役会において、有研科技集団有限公司、徳州滙達半導体股権投資基金パー
トナー企業及び当社が出資の上、山東省徳州市政府を加えた4者間で山東有研RS半導体材料有限公司を設立することを決議し、2020年7月30日に出資を行い、持分法適用関連会社といたしました。

※2 モニタウェーハ : 半導体製造過程のモニタリングを実施するために使用するウェーハ

  ※3  M2M : Machine to Machine(マシーン・ツー・マシーン)の省略形で、機器間の通信を意味

  ※4 ファウンドリ : 半導体産業において、実際に半導体デバイス(半導体チップ)を生産する工場のこと

※5 プライムシリコンウェーハ: カッティングされICチップとして製品化されるウェーハ

 

 

当社グループの事業とセグメント情報の区分との関連は下表の通りです。以下に示す区分は、セグメントと同一の区分であります。

セグメントの名称

事業の内容

ウェーハ再生事業

シリコンウェーハ再生事業及び販売事業

酸化膜成膜加工サービス事業

プライムシリコンウェーハ製造販売事業

プライムシリコンウェーハの製造及び販売事業

新品のモニターウェーハ、ダミーウェーハ及びシリコンインゴット等の製造販売

半導体関連装置・部材等

中古の半導体関連装置、消耗材の販売事業

その他

ソーラー事業、技術コンサルティング等

 

 

 

それぞれの主要な事業の特徴は以下の通りであります。

 

(1)ウェーハ再生事業

① シリコンウェーハ再生事業

シリコンウェーハ再生事業は、半導体製造会社から使用済みのシリコンウェーハを預かって加工し、使用可能な状態にする事業です。加工は主に「ストリッピング・エッチング(ウェーハ表面膜の除去)」、「プレソート検査(中間検査)」、「ポリッシング(研磨)」、「1次洗浄」、「2次洗浄」、「最終検査」、という工程を経て実施されます。加工によりほぼ新品と同等の品質で再生できるため、いわばシリコンウェーハのクリーニング事業といえます。

当社グループのシリコンウェーハ再生事業のビジネスモデルを示すと下図のとおりであります。

 

※画像省略しています。

 

 

シリコンウェーハの再生は、半導体製造過程の以下のような特徴から需要が発生します。

すなわち、半導体製造会社において、半導体は数百もの工程を経て製造されていますが、数百ある工程のある一箇所で不良が生じ、そのまま最終工程まで加工した場合、不良品が発生することにより、多大な損害が生じる可能性があります。これを防止するため、各工程で加工状態をモニタリングする必要があります。そこで半導体製造会社は、製品用シリコンウェーハ(プライムシリコンウェーハ)と同時にモニタ用シリコンウェーハ(モニタウェーハ)を工程に投入し加工しています。プライムシリコンウェーハは最終工程でチップとしてカッティングされますが、モニタウェーハは各工程で抜き取りがされる為、円盤のまま形状が残ります。円盤形状を維持しているものの、加工済みのモニタウェーハには様々な情報が組み込まれているため、 そのままの状態では工程へ再投入することはできず、破棄されることになります。一方、1枚のモニタウェーハは10回から20回程度再生が可能であり、半導体製造会社にとっては、加工済みのモニタウェーハを再生加工することにより、新品のウェーハと同等品質のモニタウェーハを低コストで利用することができます。

 

② シリコンウェーハ販売事業

シリコンウェーハ販売事業は、当社が仕入れたモニタウェーハ及びダミーウェーハ(※6)(8インチ(200mm)、12インチ(300mm)) を再生し、ニ-ズに合わせて販売する事業であります。

 

※6 ダミーウェーハ: 製造装置の立ち上げで装置の安定性を上げたり、確認するために投入され、通常は搬送チェックや加工形状の評価において使用される。ウェーハの電気特性や極度の精度(たとえば平坦度)が必要とされず、ウェーハのサイズや厚みが合っていれば良いのでダミー(替え玉、身代わり)と呼ばれる。

 

③ 酸化膜成膜加工サービス事業

絶縁膜として使用される酸化膜の生成を行うもので、主に製品用シリコンウェーハ(プライムシリコンウェーハ)の表面を加工するものであります。半導体製造における標準的な最初の工程を請け負うサービスであります。

 

(2) プライムシリコンウェーハ製造販売事業

当社グループの1社である北京有研RS半導体科技有限公司の子会社の有研半導体硅材料股份公司及び山東有研半導体材料有限公司が製造及び販売を行う半導体用シリコンウェーハは、半導体メーカーが半導体を製造する上で基板材料として用いられるものであります。有研半導体硅材料股份公司及び山東有研半導体材料有限公司は中国国内の半導体メーカーのニーズに合わせて主に125mm、150mm、200mmのシリコンウェーハを製造販売しております。

 

(3) 半導体関連装置・部材等

半導体関連装置・部材等は主に中古の半導体関連機械装置(新品及び半導体以外も可)、消耗材を対象とするもので、解体・搬出・陸送・海運・搬入・組立を一括してプロデュースし、主に中国市場へ販売する事業であります。

 

(4) その他

ソーラー事業は、2012年から開始した再生エネルギー推進政策を基に、同年、本事業への参入を決定し、当社の経営理念の一つ“地球環境を大切に”を実践すべく2013年10月より約1MWの発電を開始し、2015年12月の増設により約1.59MWの発電事業を行っております。

技術コンサルティングは、半導体ウェーハ製造工程の技術コンサルティング事業として技術指導、教育サービスを提供しています。

 

 

[事業系統図]

       下図は、2023年12月末現在の当社グループの事業系統図を示しております。

 

※画像省略しています。
24/03/29

4 【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】

(1) 経営成績等の状況の概要

当連結会計年度における当社グループ(当社、連結子会社及び持分法適用会社)の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー(以下、「経営成績等」という。)の状況の概要は次のとおりであります。

なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において判断したものであります。

① 経営成績の状況

当連結会計年度の世界経済につきましては、前連結会計年度から上昇していた物価が引き続き高い水準にあり、また欧米諸国の金利政策による円安水準が続く傾向にありました。

半導体業界においては、コロナ禍で増加した半導体の需要が一巡し、在庫調整の動きが全世界的に急激に進みました。一方で、技術革新等への対応で中長期的には半導体業界のさらなる成長が見込まれており、先端半導体の製造工場新設・増設のための設備投資は堅調に行われております。

 

当社グループでは、ウェーハ再生事業が堅調な顧客需要、増産設備投資の寄与、生産性の向上等により順調に推移しました。また、半導体関連装置・部材等事業は安定した顧客需要により順調に推移しました。一方、プライムシリコンウェーハ製造販売事業は市場環境の変化等の影響により前年同期比で減収減益となりました。

 

以上の結果、当連結会計年度における当社グループの売上高は51,893,198千円前年同期比4.1%増)となりました。営業利益は11,894,253千円前年同期比8.6%減)となり、経常利益は14,921,463千円前年同期比3.7%減)、親会社株主に帰属する当期純利益は7,703,340千円前年同期比0.5%減)となりました。

 

当連結会計年度の経営成績の内訳は以下のとおりであります。

(売上高)

当連結会計年度における売上高は、51,893,198千円前年同期比4.1%増)となりました。

高い顧客需要と増産設備投資、新工場稼働により、前年同期比で販売を増加させたことによります。

(売上原価及び売上総利益)

売上原価は、34,479,451千円前年同期比9.7%増)となり、売上総利益は17,413,746千円前年同期比5.5%減)となりました。

 

(営業利益)

営業利益は11,894,253千円前年同期比8.6%減)となりました。

研究開発費などが増加したため、販売費及び一般管理費が5,519,493千円前年同期比2.0%増)と増加し、一方で売上総利益が減少したことで営業利益も減少しております。

(経常利益)

経常利益は、14,921,463千円前年同期比3.7%減)となりました。

営業利益が前年同期比で減少しましたが、受取利息1,494,930千円や補助金収入1,735,107千円等を営業外収益に計上したことにより、営業利益よりも経常利益が大きくなっております。

(税金等調整前当期純利益)

税金等調整前当期純利益は、14,984,675千円前年同期比1.2%減)となりました。

(親会社株主に帰属する当期純利益)

親会社株主に帰属する当期純利益は、7,703,340千円前年同期比0.5%減)となりました。

 

事業のセグメント別の業績を示すと次のとおりです。

 

(ウェーハ再生事業)

ウェーハ再生事業におきましては、需要を見極めたタイムリーな投資を実施し、シェアの拡大に努めてまいりました。これらの活動等の結果、前期から引き続き国内外再生市場の需要が堅調に推移したことおよび増産設備投資の寄与により、外部顧客への売上高は20,499,198千円(前年同期比14.6%増)、セグメント利益(営業利益)は8,114,746千円(前年同期比11.0%増)となりました。

 

(プライムシリコンウェーハ製造販売事業)

プライムシリコンウェーハ製造販売事業におきましては、市場環境の変化等の影響により需要減となっておりますが、安定した生産および市場を見極めた投資を実施してシェア拡大に努めてまいりました。これらの活動等の結果、外部顧客への売上高は17,258,127千円(前年同期比16.5%減)、セグメント利益(営業利益)は3,741,552千円(前年同期比37.6%減)となりました。

 

(半導体関連装置・部材等) 

半導体関連装置・部材等におきましては、新市場開拓のための営業活動強化やグループシナジーの活用による成長戦略を実施してまいりました。これらの活動等の結果、旺盛な顧客需要を背景にした販売増加により、外部顧客への売上高は14,057,248千円(前年同期比25.0%増)、セグメント利益(営業利益)882,445千円(前年同期比3.5%減)となりました。

 

 (その他)

その他におきましては、ソーラー事業及び技術コンサルティングの業績を示しており、外部顧客への売上高は78,623千円(前年同期比9.7%増)、セグメント利益(営業利益)は42,079千円(前年同期は9,444千円のセグメント損失)となりました。

 

② 生産、受注及び販売の実績

生産、受注及び販売の実績は、以下のとおりであります。

 a. 生産実績

 生産実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。

セグメントの名称

当連結会計年度

(自 2023年1月1日

至 2023年12月31日

前年同期比(%)

ウェーハ再生事業      (千円)

20,533,798

+11.1

プライムシリコンウェーハ製造販売事業

              (千円)

18,709,132

△21.8

半導体関連装置・部材等    (千円)

3,997,080

△0.8

合計(千円)

43,240,011

△6.9

 

(注)1.その他事業は生産活動を行っておりませんので、記載しておりません。

2.セグメント間の内部振替後の数値によっております。

3.金額は売価によっております。

 

 b. 受注実績

当社グループでは見込加工しているため、該当事項はありません。

 

 c. 販売実績

 販売実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。

セグメントの名称

当連結会計年度

(自 2023年1月1日

至 2023年12月31日

前年同期比(%)

ウェーハ再生事業       (千円)

20,499,198

+13.9

プライムシリコンウェーハ製造販売事業

              (千円)

18,736,198

△17.7

半導体関連装置・部材等   (千円)

14,057,248

+24.8

その他           (千円)

78,623

+9.7

調整額           (千円)

△1,478,070

△33.6

合計(千円)

51,893,198

+4.1

 

(注)1.主な相手先別の販売実績および当該販売実績の総販売実績に対する割合は次のとおりです。

      2.セグメント間の内部振替後の数値によっております。

相手先

 

 

前連結会計年度

(自 2022年1月1日

  至 2022年12月31日)

 

             当連結会計年度

(自 2023年1月1日

至 2023年12月31日

金額(千円)

割合(%)

金額(千円)

割合(%)

Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.

8,280,391

16.6

10,056,392

19.4

MV Trading Co Limited

-

-

5,415,070

10.4

 

 

③ 財政状態の状況

(資産)

当連結会計年度末における流動資産は96,409,626千円となり、前連結会計年度末と比較して5,939,396千円増加いたしました。これは主に、現金及び預金2,818,650千円の増加、受取手形及び売掛金1,021,949千円の増加、商品及び製品2,672,950千円の増加によるものであります。

固定資産は44,256,289千円となり、前連結会計年度末と比較して7,171,837千円増加いたしました。これは主に建物及び構築物864,599千円の増加、機械装置及び運搬具1,108,230千円の増加、建設仮勘定1,576,277千円の増加、関係会社である山東有研RS半導体材料有限公司への追加出資による投資有価証券2,272,446千円の増加によるものであります。

この結果、総資産は140,665,916千円となり、前連結会計年度末に比べて13,111,234千円増加いたしました。

(負債)

当連結会計年度末における流動負債は18,265,052千円となり、前連結会計年度末と比較して642,544千円増加いたしました。これは主に支払手形及び買掛金1,292,511千円の減少、短期借入金1,000,000千円の減少、流動負債その他2,636,256千円の増加によるものであります。

固定負債は6,972,767千円となり、前連結会計年度末と比較して1,485,917千円減少いたしました。これは主に、長期借入金1,423,092千円の減少によるものであります。

この結果、負債合計は25,237,819千円となり、前連結会計年度末に比べ843,373千円減少いたしました。

(純資産)

当連結会計年度末における純資産は115,428,096千円となり、前連結会計年度末と比較して13,954,608千円増加いたしました。これは主に親会社株主に帰属する当期純利益による利益剰余金7,703,340千円の増加、為替換算調整勘定2,082,417千円の増加、非支配株主持分4,813,705千円の増加によるものであります。

 

④ キャッシュ・フローの状況

当連結会計年度末における現金及び現金同等物(以下「資金」という)の期末残高は、前連結会計年度末の66,745,689千円より2,899,559千円増加し、69,645,248千円となりました。

当連結会計年度における各キャッシュ・フローの状況とそれらの要因は次のとおりであります。

 

(営業活動によるキャッシュ・フロー)

当連結会計年度における営業活動による資金の増加は、13,857,215千円(前連結会計年度は15,316,179千円の増加)となりました。

これは主に、税金等調整前当期純利益14,984,675千円、減価償却費3,774,911千円、売上債権の増加額590,960千円、棚卸資産の増加額1,578,081千円、契約負債の増加額3,081,118千円、法人税等の支払額3,288,967千円によるものであります。
 

(投資活動によるキャッシュ・フロー)

当連結会計年度における投資活動による資金の減少は、8,960,835千円(前連結会計年度は1,728,523千円の減少)となりました。

これは主に、有形固定資産の取得による支出5,331,398千円と定期預金の払戻による収入2,151,088千円、定期預金の預入による支出2,014,265千円関係会社株式の取得による支出2,590,180千円によるものであります。

 

(財務活動によるキャッシュ・フロー)

当連結会計年度における財務活動による資金の減少は、4,801,928千円(前連結会計年度は32,928,747千円の増加)となりました。

これは主に非支配株主への配当金の支払額1,483,772千円、短期借入金の純増減額△1,000,000千円、長期借入金の返済による支出1,799,851千円によるものであります。

 

 

(2) 経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容

経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識および分析・検討内容は次のとおりであります。なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において判断したものであります。

 

①  重要な会計方針及び見積り

当社グループの連結財務諸表は、わが国において一般に公正妥当と認められる会計基準に基づき作成されております。この連結財務諸表の作成にあたって採用している重要な会計方針は「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等(1)連結財務諸表 注記事項(連結財務諸表作成のための基本となる重要な事項)」に記載されているとおりであります。

当社グループの連結財務諸表作成において、会計方針の選択・適用、資産・負債及び収益・費用の報告金額及び開示に影響を与える見積りを必要としております。これらの見積りについては過去の実績や現状等を勘案し合理的に判断しておりますが、実際の結果は見積り特有の不確実性があるため、これらの見積りと異なる場合があります。

連結財務諸表の作成にあたって用いた会計上の見積り及び仮定のうち、重要なものは「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等 注記事項 (重要な会計上の見積り)」及び「第5 経理の状況 2 財務諸表等 注記事項 (重要な会計上の見積り)」に記載しております。

 

②  当連結会計年度の経営成績等の状況に関する認識および分析・検討内容

a. 経営成績

「(1) 経営成績等の状況の概要 ① 経営成績の状況」をご参照ください。

b. 財政状態

「(1) 経営成績等の状況の概要 ③ 財政状態の状況」をご参照ください。

c. キャッシュ・フローの分析

キャッシュ・フローの分析については、「(1) 経営成績等の状況の概要 ④ キャッシュ・フローの状況」をご参照ください。

d. 資本の財源及び資金の流動性

(資金需要)

当社グループの主な資金需要は、設備投資、ウェーハや半導体生産設備の仕入、製造費や販売費及び一般管理費などであります。

今度予定されている大きな資金需要として、12インチ再生ウェーハの生産能力拡充のための設備投資がありますが、当該財源は自己資金及び金融機関からの借入により確保する予定であります。

(財務政策)

当社グループは、事業展開の必要に応じて機動的な資金調達を実施していく方針でありますが、そのために健全な財政状態の維持に努めてまいります。

当社グループの財政状態は引き続き健全な状態を保っており、現金及び現金同等物の流動性資産に加えて、営業活動によるキャッシュ・フローや金融機関からの借入により事業の拡大に必要な資金を十分に確保できているものと考えております。

 

③  経営成績に重要な影響を与える要因について

「第2 事業の状況 3 事業等のリスク」に記載のとおり、事業環境に関するリスク、事業に関するリスク、事業体制に関するリスク等、様々なリスク要因が当社の経営成績に重要な影響が与える可能性があると認識しております。

そのため、当社は、各事業セグメント及び各地域の需給バランスを十分認識し安全性の高い設備投資を実施すると共に災害に強い事業基盤を構築し、経営成績に重要な影響を与えるリスクを分散・低減し、適切に対応を行ってまいります。

 

④  経営者の問題意識と今後の方針について

当社の経営陣は、「第2 事業の状況 1 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等」に記載のとおり、当社が今後の業容拡大を遂げるためには、様々な課題に対処していくことが必要であると認識しております。

そのためには、プライムシリコンウェーハ製造販売事業安定化に必要な結晶技術の確立、プライムシリコンウェーハ業界出身者の確保を実現することが先決であります。ウェーハ再生事業においては半導体の微細化技術に対応するウェーハ再生技術の開発及び事業化、生産効率向上による収益性の向上を目指します。営業方針としては安定的組織的な営業力の強化による海外商圏のさらなる拡大を目指します。またウェーハ事業全体として加工能力増強の為の設備投資を実行しながらも、財務体質の強化にも努めてまいります。

 

⑤  経営戦略の現状と見通し

当社は、半導体デバイスメーカーで使用するシリコンウェーハの再生事業メーカーとして、半導体デバイスの高度集積化に対応した設備・技術を保有し、需要の拡大に対して安定供給を行ってまいりました。

今後も、顧客満足を指向した経営をするために、更なる研究開発や最先端設備の拡充等を通じて、再生ウェーハの安定供給を継続できるように努めてまいります。

また、新たに進出したプライムシリコンウェーハ製造販売事業の拡大を推進するとともに、半導体生産設備及び部材の売上拡大にも注力し、収益源の多様化に努めてまいります。