E02119 Japan GAAP
前期
415.6億 円
前期比
139.1%
平均年齢（勤続年数)
43.5歳（10.6年)
従業員数
0.0人（連結:626人)
当社グループは、当社（株式会社ニューフレアテクノロジー）及び子会社２社により構成されており、電子ビームマスク描画装置、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の３製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売、保守サービスを主たる事業として行っております。
各製品の特徴は、次のとおりであります。
(1）電子ビームマスク描画装置
電子ビームマスク描画装置は、ＬＳＩ（大規模集積回路）製造工程において、電子ビームを用いてナノ・オーダーの微細な電子回路パターンを回路原板（フォトマスク）となる感光剤を塗布した石英ガラス基板上に描画する装置です。電子ビーム描画制御技術をコアの技術として、精密機械制御技術、大規模データ処理技術、高速・高精度アナログ回路技術等、多様で、かつ、高度に専門化された先端要素技術を結集した装置です。ＬＳＩの高機能化、省電力化のためにはＬＳＩ単位面積当たりに搭載できる電子回路の密度を上げることが重要課題となっています。電子ビームを高度に制御する電子ビームマスク描画装置は、先端半導体デバイスの開発において性能向上とコストダウンに大きく貢献しています。
(2）マスク検査装置
マスク検査装置は、フォトマスクと呼ばれるＬＳＩの原版に形成された電子回路パターンを検査する装置で、紫外線の中でもより短波長である深紫外レーザを光源とした光学技術をコアとして、画像処理、欠陥検出処理、機械制御、ソフトウエア等の先端技術を融合して構成されております。当社のマスク検査装置は上記電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原板（フォトマスク）を高速で検査し、微細化が進むＬＳＩの歩留まり向上に貢献しております。
(3）エピタキシャル成長装置
エピタキシャル成長装置は、半導体製造の基板材料であるシリコンウェハ上に、下地の基板の結晶面にそろえてシリコン単結晶を成長させる装置です。パソコンやワークステーションに搭載される高性能ＭＰＵには表面に結晶欠陥のほとんどないエピタキシャルウェハが用いられています。地球環境への関心の高まりから近年は電力制御用のパワー半導体の需要が伸びていますが、これにはエピタキシャルウェハが欠かせません。当社のエピタキシャル成長装置は、独自の加熱機構とウェハの高速回転によるガス流れの制御により、高品質なエピタキシャルウェハの高い生産性を特徴としております。
(事業系統図)
※画像省略しています。
(1) 業績
当連結会計年度における経済環境は、年度の初めには、個人消費や企業収益に足踏み傾向がみられたものの、設備投資には持ち直しの動きがみられ、雇用情勢も改善傾向がみられました。また、年度の半ば頃からは、英国のＥＵ離脱問題やアジア新興国の景気動向、米国の利上げの影響等、景気の下振れのリスクもみられましたが、個人消費は底堅い動きとなり、雇用情勢も改善傾向にある等、総じてみれば景気は緩やかな回復基調が続きました。
半導体業界においては、タブレット型端末やパソコン需要は低迷したものの、スマートフォン市場が堅調に推移したことで、フラッシュメモリやロジック半導体等の増産向け設備投資が活発化し、アジア地域を中心に半導体需要は高水準を維持し、半導体関連の設備投資も台湾、韓国を中心として好調に推移しました。
一方、マスク製造装置市場は、ロジック半導体メーカーやファウンドリーメーカーを中心に、7ナノメートル以降の微細化投資への意欲が引き続き堅調に推移したことで、マスク関連全体の設備投資は総じて堅調に推移しました。
このような環境のもとで、当社グループは、主力の電子ビームマスク描画装置等の拡販に努めてまいりました。
その結果、当連結会計年度における受注高は37,519,133千円(前年同期比31.6%減)、受注残高は24,430,988千円(前年同期比29.3%減)、売上高につきましては、47,702,596千円(前年同期比7.8%増)となりました。
また、損益面につきましては、経営全般における効率化・合理化を推進し、継続的なコスト削減に努めました結果、営業利益は13,137,405千円（前年同期比2.4%増)、経常利益は13,460,281千円（前年同期比4.5%増）、親会社株主に帰属する当期純利益は9,750,826千円(前年同期比5.8%増)となりました。
(2) キャッシュ・フロー
当連結会計年度における現金及び現金同等物（以下「資金」という）の残高は、前連結会計年度末に比べ、
5,596,009千円増加し、37,210,242千円となりました。なお、当連結会計年度における各キャッシュ・フローの
状況等は次のとおりであります。
（営業活動によるキャッシュ・フロー）
当連結会計年度の営業活動の結果取得した資金は、9,104,442千円（前連結会計年度は21,686,270千円の取得）となりました。これは主に、税金等調整前当期純利益13,127,464千円、減価償却費2,510,879千円、前受金の増加1,679,251千円等の資金取得に対し、法人税等の支払額5,001,885千円、売上債権の増加3,410,533千円等が相殺されたことによるものです。
（投資活動によるキャッシュ・フロー）
当連結会計年度の投資活動の結果使用した資金は、1,867,664千円（前連結会計年度は1,309,805千円の使用）となりました。これは主に、有形固定資産の取得による支出1,478,589千円等によるものです。
（財務活動によるキャッシュ・フロー）
当連結会計年度の財務活動の結果使用した資金は、1,608,582千円（前連結会計年度は2,606,369千円の使用）となりました。これは主に、配当金の支払額1,500,188千円等によるものです。