売上高

利益

資産

キャッシュフロー

配当

ROE 自己資本利益率

EPS BPS

バランスシート

損益計算書

労働生産性

ROA 総資産利益率

総資本回転率

棚卸資産回転率


最終更新:

E02060 Japan GAAP

売上高

78.3億 円

前期

64.0億 円

前期比

122.3%

時価総額

397.3億 円

株価

4,940 (03/28)

発行済株式数

8,042,881

EPS(実績)

169.86 円

PER(実績)

29.08 倍

平均給与

648.5万 円

前期

612.3万 円

前期比

105.9%

平均年齢(勤続年数)

40.9歳(13.2年)

従業員数

175人

株価

by 株価チャート「ストチャ」

3【事業の内容】

当社は、半導体等電子部品製造装置メーカーで、薄膜形成・加工装置の製造及び販売を事業としております。

当社の製品は、薄膜を形成するCVD(Chemical Vapor Deposition=化学的気相成長)装置、薄膜を微細加工するエッチング装置、基板表面などをクリーニングする洗浄装置、その他装置等に区分されます。

(1)各々の装置分類毎の概要は次のとおりであります。

装置区分

概          要

CVD装置

反応性の気体を基板上に供給し、化学反応によって薄膜を形成する装置で、一般に半導体、電子部品製造のための半導体膜、絶縁膜、金属膜などを形成するために使われます。当社が開発したLS(Liquid Source)-CVD装置では、引火爆発性のあるガスを使用せず安全性に優れた液体原料を用いて、低温で均一性に優れた薄膜を高速で形成することが可能であります。

2015年12月から販売を開始した原子層堆積装置(ALD=Atomic Layer Deposition)はCVD装置に分類しております。ALD装置は、反応室に有機金属原料と酸化剤を交互に供給し、表面反応のみを利用して成膜を行う装置であり、高い膜厚制御性と良好な段差被覆性を実現することが可能であります。

エッチング装置

各種半導体基板上の半導体薄膜、絶縁膜をはじめ微細加工が必要な材料をドライ加工する装置で、反応性の気体をプラズマ分解し、目的物と反応させて蝕刻いたします。当社独自のトルネードICP(Inductively Coupled Plasma=高密度プラズマ)を利用するエッチング装置では、高密度プラズマを安定して生成し、高速で高精度の微細加工が可能であります。

洗浄装置

実装基板や各種半導体基板などを溶液を用いずドライ洗浄する装置で、減圧下で反応性の気体をプラズマ放電させて処理する装置や紫外線と高濃度オゾンの併用で処理する装置などがあります。当社のドライ洗浄装置は、ウエット洗浄では難しい超精密洗浄を高効率で行うことが可能であります。

2016年9月より販売を開始した水蒸気(H2O)を用いたプラズマ処理装置であるAqua Plasma(アクアプラズマ)洗浄装置は、金属酸化膜の還元、有機汚れの洗浄、樹脂接合、超親水化などの表面処理を、安全で環境に優しく行うことが可能であります。

その他装置

上記装置には含まれない特別な装置であります。

部品・メンテナンス

部品、保守メンテナンスなどであります。

 

(2)当社事業の用途別区分は次のとおりであります。

用    途

概          要

オプトエレクトロニクス分野

主に化合物半導体から作られるLED(Light Emitting Diode=発光ダイオード)やマイクロLED、LD(Laser Diode=半導体レーザー)、面発光レーザー(VCSEL)などの発光デバイスのほか、電気信号を光信号に変換したり、逆に光信号を電気信号に変換したりする光通信用デバイスなどに関する分野であります。

電子部品分野

パワーデバイス・高周波デバイス・各種センサー・MEMS(Micro Electro Mechanical Systems=微小電気機械素子)・SAW(Surface Acoustic Wave=弾性表面波)デバイス・量子デバイスなどに関する分野であります。

シリコン分野

三次元LSI(Large Scale Integrated circuit)・三次元パッケージやウェハー欠陥解析などに関する分野であります。

実装・表面処理分野

ICのパッケージングの洗浄や表面処理に関する分野であります。高密度実装に対応するために基板はますます小型化、薄型化、多ピン化しており、高度な洗浄機能が要求されております。

表示デバイス分野

有機EL(Electro Luminescence)、LCD(Liquid Crystal Display=液晶表示素子)、VR(Virtual Reality)ディスプレイなどに関する分野であります。

その他分野

上記以外の分野であります。

部品・メンテナンス

部品・メンテナンスに関する分野であります。

 

当社の装置の製造に関しては、自社の設計企画により協力会社に製造を委託し、製品出荷の前に独自のプログラムソフトを入力し、仕様検査・出荷検査を経て販売しております。販売に関しては営業所を通じて行うとともに、海外については一部現地販売代理店に委託しております。

当社は、半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであり、以上述べた関係を図示すると次のとおりであります。

(業態系統図)

※画像省略しています。

 

(注)台湾を中心とする保守サービス業務は現地法人「莎姆克股份有限公司」へ委託しております。

 

23/10/24

4【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】

当事業年度における当社の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の概要は次のとおりであります。

 

(1)経営成績等の状況の概要

① 経営成績の状況

当事業年度における世界経済は、ウクライナ情勢を受けた資源・穀物価格の高騰、インフレリスクに対応した欧米諸国での政策金利の引き上げ、中国の景気減速等、先行き不透明な状況が続きました。一方、国内経済は、新型コロナウイルス感染症にかかる行動制限緩和後の需要回復に加え、緩和的な金融環境や経済対策の効果もあり、緩やかに回復いたしました。

半導体等電子部品業界におきましては、当社の関わる化合物半導体及び電子部品製造装置の販売マーケットにおいて、5G(第5世代移動通信システム)の普及に伴いその「高速・大容量」「低遅延」「多接続」という特色を生かした新たな事業領域での開発投資が幅広い企業で進み、本格生産への移行が進んでおります。加えて、不透明さを増す国際情勢を背景に、各国が自国での半導体産業育成の取り組みを強化しており、半導体等電子部品製造装置の需要は拡大しております。

このような状況の下、当社ではオプトエレクトロニクス分野では通信用・顔認証用・車載用等のレーザーダイオードやLED用途、電子部品分野では高周波デバイス、パワーデバイス、量子デバイス用途、シリコン分野では欠陥解析用途、表示デバイス分野ではVRディスプレイ用途、その他分野では大学・研究機関での共用設備向けの研究開発機や医療・バイオテクノロジー用途向けの製造装置の販売実績がありました。また、新規事業(ヘルスケア事業)の創出に向けた技術開発への取り組みや、水蒸気を用いたプラズマ処理装置であるAqua Plasma(アクアプラズマ)洗浄装置の拡販による新たな事業領域の拡大に注力いたしました。

その結果、国内売上高は5,145百万円(前期比24.3%増)、海外売上高は2,685百万円(前期比18.6%増)となり、海外売上高比率は34.3%となりました。また、当事業年度の受注高は8,221百万円(前期比2.1%減)となり、当事業年度末の受注残高は5,418百万円(前期比7.8%増)となりました。

以上の結果、当事業年度における業績は、売上高が7,830百万円(前期比22.3%増)、営業利益は1,858百万円(前期比35.6%増)、経常利益は1,927百万円(前期比30.1%増)、当期純利益は1,366百万円(前期比29.7%増)となりました。

主な品目別の売上高は、次のとおりであります。なお、当社は半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであるためセグメント毎の記載はしておりません。

(CVD装置)

オプトエレクトロニクス分野のレーザーダイオード、電子部品分野での高周波デバイスにおける各種絶縁膜、保護膜形成用途での販売により、1,299百万円(前期比18.9%増)となりました。

(エッチング装置)

電子部品分野での高周波デバイスや各種センサー、オプトエレクトロニクス分野のレーザーダイオード、シリコン分野の欠陥解析など幅広い用途での販売により、3,957百万円(前期比34.8%増)となりました

(洗浄装置)

実装・表面処理分野の各種表面改質用途、電子部品分野での各種センサーの洗浄用の生産機や、医療・バイオ関係の表面有機物除去用などの販売により、833百万円(前期比65.1%増)となりました。

(部品・メンテナンス)

既存装置のメンテナンスや部品販売、装置の移設・改造などで、1,740百万円(前期比6.9%減)となりました。

 

② 財政状態の状況

(流動資産)

当事業年度末における流動資産の残高は、10,175百万円で前事業年度末に比べ1,335百万円増加いたしました。

(固定資産)

当事業年度末における固定資産の残高は、4,619百万円で前事業年度末に比べ80百万円増加いたしました。

(流動負債)

当事業年度末における流動負債の残高は、2,676百万円で前事業年度末に比べ361百万円増加いたしました。

(固定負債)

当事業年度末における固定負債の残高は、974百万円で前事業年度末に比べ33百万円減少いたしました。

(純資産)

当事業年度末における純資産の残高は、11,144百万円で前事業年度末に比べ1,086百万円増加いたしました。自己資本比率は75.3%と前事業年度末に比べ0.1ポイント上昇いたしました。

 

③ キャッシュ・フローの状況

当事業年度における現金及び現金同等物(以下「資金」という)は、前事業年度末に比べ545百万円減少し、3,374百万円(前事業年度末比13.9%減)となりました。

当事業年度における各キャッシュ・フローの状況は以下のとおりであります。

(営業活動によるキャッシュ・フロー)

営業活動の結果使用した資金は189百万円(前期に得られた資金は1,181百万円)となりました。その主な内容は税引前当期純利益が1,927百万円に対して、売上債権及び契約資産の増加が1,301百万円、棚卸資産の増加が667百万円であったことによるものであります。

(投資活動によるキャッシュ・フロー)

投資活動の結果使用した資金は75百万円(前期に使用した資金は214百万円)となりました。その主な内容は、定期預金の払戻による収入が2,607百万円に対して、定期預金の預入による支出が2,647百万円であったことによるものであります。

(財務活動によるキャッシュ・フロー)

財務活動の結果使用した資金は325百万円(前期に使用した資金は64百万円)となりました。これは主に配当金の支払額が281百万円、長期借入金の返済による支出が39百万円であったことによるものであります。

 

(2)生産、受注及び販売の実績

当社は、半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであるため、生産、受注及び販売の実績については、当社の品目別に記載しております。

当事業年度より、従来の「その他」から「部品・メンテナンス」へと品目別の名称を変更しております。なお、当該品目の名称変更による生産、受注及び販売の実績に与える影響はありません。

 

① 生産実績

当事業年度の生産実績を品目別に示すと、次のとおりであります。

品目別

当事業年度

(自  2022年8月1日

至  2023年7月31日)

前年同期比(%)

CVD装置(千円)

1,487,309

136.7

エッチング装置(千円)

4,090,701

125.9

洗浄装置(千円)

976,525

217.9

部品・メンテナンス(千円)

1,818,594

90.9

合計(千円)

8,373,131

123.4

(注) 金額は販売価格によっております。

 

② 受注実績

当事業年度の受注実績を品目別に示すと、次のとおりであります。

品目別

受注高(千円)

前年同期比(%)

受注残高(千円)

前年同期比(%)

CVD装置

1,293,600

87.7

1,147,975

99.5

エッチング装置

4,742,346

119.7

3,462,025

129.3

洗浄装置

755,993

91.2

324,606

80.7

部品・メンテナンス

1,429,529

66.9

484,018

60.9

合計

8,221,470

97.9

5,418,624

107.8

(注) 金額は販売価格によっております。

 

③ 販売実績

当事業年度の販売実績を品目別に示すと、次のとおりであります。

品目別

当事業年度

(自  2022年8月1日

至  2023年7月31日)

前年同期比(%)

CVD装置(千円)

1,299,424

118.9

エッチング装置(千円)

3,957,103

134.8

洗浄装置(千円)

833,607

165.1

部品・メンテナンス(千円)

1,740,456

93.1

合計(千円)

7,830,591

122.3

(注) 最近2事業年度の主な相手先別の販売実績及び当該販売実績の総販売実績に対する割合は、次のとおりであります。

相手先

前事業年度

(自  2021年8月1日

至  2022年7月31日)

当事業年度

(自  2022年8月1日

至  2023年7月31日)

金額(千円)

割合(%)

金額(千円)

割合(%)

スカイワークスフィルターソリューションズジャパン(株)

1,212,356

18.9

798,511

10.2

 

(3)経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容

文中の将来に関する事項は、当事業年度末現在において判断したものであります。

① 財政状態の分析

(流動資産)

当事業年度末における流動資産の残高は、10,175百万円で前事業年度末に比べ1,335百万円増加いたしました。現金及び預金が525百万円減少した一方、売掛金及び契約資産が1,176百万円、棚卸資産が585百万円増加したのが主な要因であります。

(固定資産)

当事業年度末における固定資産の残高は、4,619百万円で前事業年度末に比べ80百万円増加いたしました。機械及び装置が12百万円、建物が12百万円減少した一方、建設仮勘定が70百万円、保険積立金が20百万円増加したのが主な要因であります。

(流動負債)

当事業年度末における流動負債の残高は、2,676百万円で前事業年度末に比べ361百万円増加いたしました。未払法人税等が153百万円、契約負債が118百万円増加したのが主な要因であります。

(固定負債)

当事業年度末における固定負債の残高は、974百万円で前事業年度末に比べ33百万円減少いたしました。長期借入金が39百万円減少したのが主な要因であります。

(純資産)

当事業年度末における純資産の残高は、11,144百万円で前事業年度末に比べ1,086百万円増加いたしました。繰越利益剰余金が1,084百万円増加したのが主な要因であります。自己資本比率は75.3%と前事業年度末に比べ0.1ポイント上昇いたしました。

 

② 経営成績の分析

当事業年度の売上高、売上総利益、販売費及び一般管理費、営業利益、経常利益、特別利益及び特別損失、当期純利益の詳細は以下のとおりであります。

(売上高)

売上高は前事業年度より22.3%増加し、7,830百万円となりました。国内売上高は前事業年度より24.3%増加し5,145百万円となり、海外売上高は前事業年度より18.6%増加し2,685百万円となりました。その結果、海外売上高比率は34.3%となりました。

(売上総利益)

売上総利益は前事業年度より21.3%増加し、3,869百万円となりました。売上総利益率は、前事業年度より0.4ポイント下降し、49.4%となりました。

(販売費及び一般管理費)

販売費及び一般管理費は前事業年度より10.5%増加し、2,010百万円となりました。

(営業利益、経常利益)

営業利益は前事業年度より35.6%増加し、1,858百万円となりました。

経常利益は前事業年度より30.1%増加し、1,927百万円となりました。

(特別利益及び特別損失)

特別利益はありませんでした。

特別損失はありませんでした。

(当期純利益)

当期純利益は前事業年度より29.7%増加し、1,366百万円となりました。

 

当事業年度の経営成績は前事業年度に比べ増収増益となりました。

なお、業績の詳細、主な品目別の売上高の詳細については、「(1)経営成績等の状況の概要  ①経営成績の状況」に記載のとおりであります。

③ 経営方針、経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等

経営方針、経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等については、「第2  事業の状況  1  経営方針、経営環境及び対処すべき課題等  (2)目標とする経営指標」に記載のとおり、装置製造原価率(装置製造原価/販売価格)、売上高営業利益率、海外売上高比率を中長期的な経営の重要指標としており、当事業年度における各指標等の実績は次のとおりであります。

今後についても、更なる原価低減、コスト低減に取り組みながら、海外販売の拡大を進めることで、引き続き中長期的な経営の重要指標の目標達成に努めてまいります。

 

中長期的な

目標

実績

装置製造原価率

50.0%未満

47.7%

売上高営業利益率

20.0%以上

23.7%

海外売上高比率

50.0%以上

34.3%

 

④ 経営成績に重要な影響を与える要因や、当該要因への対応について

「第2  事業の状況  3  事業等のリスク」に記載のとおりであります。

 

⑤ 資本の財源及び資金の流動性についての分析

当社の運転資金需要のうち主なものは、材料費、労務費、外注費、諸経費や、販売費及び一般管理費等の費用であります。当社は、マーケットの設備投資需要の増減により、月次や四半期単位の売上高の変動が大きくなる傾向があり、製品の製造に必要な資金需要が一時的に増加する可能性があります。その変動に対して機動的に対処できるよう、常に潤沢な手元資金を確保しております。

投資を目的とした資金需要は、主に技術開発、生産拠点及び機械装置等の設備投資によるものであります。

当社の運転資金及び設備投資資金は主として自己資金によって賄っており、必要に応じて借入れによる資金調達を実施しております。

当社の資金状況は、当事業年度末における現金及び現金同等物の残高が前事業年度末に比べ545百万円減少し、3,374百万円(前事業年度末比13.9%減)となりました。キャッシュ・フローの状況については、「(1)経営成績等の状況の概要  ③キャッシュ・フローの状況」に記載のとおりであります。

なお、直近5事業年度におけるキャッシュ・フロー指標の推移は、次のとおりであります。

 

第40期

第41期

第42期

第43期

第44期

自己資本比率 (%)

76.8

77.9

78.0

75.2

75.3

時価ベースの自己資本比率 (%)

67.2

203.9

204.0

168.7

288.8

債務償還年数 (年)

0.9

0.8

1.4

0.8

インタレスト・カバレッジ・レシオ(倍)

243.9

245.5

140.8

303.5

(注) 1.各指標は、下記の基準で算出しております。

・自己資本比率:自己資本/総資産

・時価ベースの自己資本比率:株式時価総額/総資産

・債務償還年数:有利子負債/営業キャッシュ・フロー

・インタレスト・カバレッジ・レシオ:営業キャッシュ・フロー/利払い

2.第44期の債務償還年数及びインタレスト・カバレッジ・レシオは、営業キャッシュ・フローがマイナスであるため記載しておりません。

 

⑥ 重要な会計上の見積り及び当該見積りに用いた仮定

当社の財務諸表は、わが国において一般に公正妥当と認められている会計基準に基づき作成されております。当社は、財務諸表の作成には、経営者による会計方針の選択・適用、資産・負債及び収益・費用の報告金額及び開示に影響を与える見積りを必要としております。これらの見積りについては、過去の実績等を勘案し合理的に判断しておりますが、実際の結果は見積りによる不確実性のため、これらの見積りとは異なる場合があります。

当社の財務諸表で採用する重要な見積りは、「第5  経理の状況  1財務諸表等  (1)財務諸表  注記事項  (重要な会計方針)」に記載のとおりであります。